특허 요약: KR20070118959A
제목: 고 전류 고 주파수 전력 교류-주파수 차단 필터를 이용한 플라즈마 반응기 가열용
발명자: 발렌틴 엔. 토도로브
출원인: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원일: 2007년 6월 11일
공개일: 2007년 12월 18일
우선권 날짜: 2006년 6월 13일
요약: 이 특허는 플라즈마 반응기에서 전기 정전 척을 가열하기 위한 고 전류 교류(AC)와 고 주파수(RF) 전력의 교류-주파수 차단 필터에 관한 것입니다. 이 필터는 가열 회로로 인해 플라즈마나 챔버 임피던스의 변화를 줄여주는 역할을 합니다. RF 필터(42,46)의 한 쌍은 리액턴스 저항을 보여줍니다.
기술 개요:
- 목적: 플라즈마 반응기 가열용 필터의 성능 향상.
- 특징: AC-RF 디커플링 필터는 고 AC 전류와 고 RF 전력을 견디며 플라즈마 시스템의 안정성을 유지합니다.
- 장점: 플라즈마 임피던스 변화 최소화.
PDF 문서: KR20070118959A PDF
활동 상태:
- 미국(US): 활성
- 중국(CN): 활성
- 일본(JP): 활성
- 한국(KR): 비활성
- 대만(TW): 활성
이 특허는 고 전류 및 고 주파수 전력을 처리하는 AC-RF 디커플링 필터를 통해 플라즈마 반응기의 효율을 높이고 안정성을 유지하는 기술을 다루고 있습니다.
특허 KR20070118959A의 목적 상세 설명
특허 제목: 고 전류 고 주파수 전력 교류-주파수 차단 필터를 이용한 플라즈마 반응기 가열용
이 특허의 목적은 다음과 같습니다:
- 플라즈마 반응기의 가열 효율성 향상:
- 플라즈마 반응기 내에서 전기 정전 척을 가열할 때, 높은 AC 전류와 RF 전력이 필요합니다. 이 가열 과정에서 회로의 임피던스가 변하면 플라즈마의 안정성이 떨어지거나 반응 효율이 낮아질 수 있습니다.
- 이 특허는 고 전류와 고 주파수 전력을 효과적으로 처리할 수 있는 필터를 설계하여, 이러한 문제를 해결하고 가열 효율을 높이는 것을 목적으로 합니다.
- 임피던스 변화 최소화:
- 플라즈마 반응기 가열 회로에서 발생하는 임피던스 변화는 플라즈마의 상태를 불안정하게 만들 수 있습니다.
- 특허에서 제안하는 필터는 가열 회로로 인한 임피던스 변화를 최소화하여, 플라즈마 반응기의 안정성을 유지합니다.
- 전력 손실 감소 및 에너지 효율성 증대:
- 고 전류와 고 주파수 전력을 효율적으로 관리하지 못하면 불필요한 전력 손실이 발생할 수 있습니다.
- 이 특허는 이러한 전력 손실을 줄이고, 에너지 효율성을 높이기 위해 설계되었습니다.
- 플라즈마 시스템의 안정성 유지:
- 플라즈마 반응기에서의 안정성은 반응기의 전반적인 성능과 수명을 좌우합니다.
- 필터를 통해 플라즈마 시스템의 안정성을 높이고, 반응기의 수명을 연장시킬 수 있습니다.
- RF 필터 설계:
- 특허에 따르면, RF 필터(42, 46)의 한 쌍은 리액턴스 저항을 보여줍니다. 이는 필터가 RF 신호를 효과적으로 처리하고, 필요한 주파수 대역만 통과시키는 역할을 합니다.
- 이로 인해 가열 회로로 인해 발생할 수 있는 불필요한 주파수 신호를 차단하고, 필요한 주파수만 사용하여 플라즈마 반응기의 성능을 최적화합니다.
기술적 구현
특허에서 제안하는 기술은 다음과 같은 방식으로 구현됩니다:
- AC-RF 디커플링 필터: 이 필터는 고 AC 전류와 고 RF 전력을 견딜 수 있도록 설계되었습니다. 필터는 플라즈마 반응기 내에서 가열 회로로 인해 발생할 수 있는 임피던스 변화를 줄여줍니다.
- 리액턴스 저항: RF 필터의 리액턴스 저항 특성을 이용하여, 필터는 필요한 주파수 신호를 효과적으로 처리하고, 불필요한 신호를 차단합니다.
- 설계 구조: 필터의 구조는 플라즈마 반응기의 가열 회로와 통합되어 작동하며, 이는 플라즈마의 안정성을 유지하고, 가열 효율을 극대화하는 데 기여합니다.
이러한 목적과 기술적 구현을 통해, 특허 KR20070118959A는 플라즈마 반응기 가열 과정의 효율성과 안정성을 크게 향상시키고자 합니다.
종래 기술과 구별되는 특허 KR20070118959A의 기술적 특징
이 특허는 종래의 기술과 비교하여 여러 가지 독특한 기술적 특징을 가지고 있습니다. 주요 차별화 요소는 다음과 같습니다:
- 고 전류 및 고 주파수 처리 능력:
- 종래의 필터는 보통 낮은 전류 및 주파수 대역을 처리하는 데 중점을 둡니다.
- 이 특허는 고 전류와 고 주파수를 처리할 수 있는 AC-RF 디커플링 필터를 제안합니다. 이를 통해 플라즈마 반응기의 가열 효율성과 안정성을 높입니다.
- 임피던스 변화 최소화:
- 기존 기술은 가열 회로로 인한 플라즈마나 챔버의 임피던스 변화에 효과적으로 대응하지 못하는 경우가 많습니다.
- 이 특허는 가열 회로로 인한 임피던스 변화를 최소화하는 필터를 설계하여, 플라즈마의 상태를 더 안정적으로 유지할 수 있도록 합니다.
- 효율적인 RF 필터링:
- 기존의 필터는 RF 신호를 효율적으로 처리하지 못하여 불필요한 신호가 시스템에 영향을 줄 수 있습니다.
- 이 특허의 필터는 RF 필터(42, 46)의 리액턴스 저항 특성을 이용하여, 필요한 주파수 신호만 통과시키고 불필요한 신호를 차단합니다. 이를 통해 시스템의 성능을 최적화합니다.
- 플라즈마 시스템의 안정성 향상:
- 종래 기술에서는 플라즈마 시스템의 안정성이 낮아져 반응 효율이 떨어질 수 있습니다.
- 이 특허는 필터를 통해 플라즈마 시스템의 안정성을 높임으로써, 전체 시스템의 반응 효율과 수명을 향상시킵니다.
- 전력 손실 감소 및 에너지 효율성 증대:
- 기존 필터 시스템에서는 고 전류와 고 주파수 전력을 효율적으로 관리하지 못해 전력 손실이 발생할 수 있습니다.
- 이 특허는 전력 손실을 줄이고, 에너지 효율성을 높이기 위해 고안되었습니다. 이를 통해 더 효율적인 전력 관리를 실현합니다.
상세 기술적 특징
- 고 전류 및 고 주파수용 AC-RF 디커플링 필터:
- 이 필터는 고 전류와 고 주파수 전력을 처리할 수 있도록 설계되어, 플라즈마 반응기의 가열 시스템에서 발생하는 임피던스 변화를 최소화합니다.
- RF 필터링:
- 필터의 리액턴스 저항 특성은 RF 신호를 효과적으로 처리하여, 필요한 주파수 대역만 통과시키고 불필요한 신호를 차단합니다. 이는 플라즈마 반응기의 성능 최적화에 기여합니다.
- 구조적 통합:
- 필터는 플라즈마 반응기의 가열 회로와 통합된 구조를 가지며, 이는 시스템의 안정성을 유지하고, 가열 효율을 극대화하는 데 도움을 줍니다.
이와 같은 기술적 특징들은 종래의 기술과 구별되는 점이며, 이 특허가 고 전류 및 고 주파수 전력을 효과적으로 처리하여 플라즈마 반응기의 효율성과 안정성을 크게 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다.
고전류 고주파수용 AC-RF 디커플링 필터의 구성 및 특징
특허 번호: KR20070118959A
필터 구성의 주요 특징:
- 고전류 및 고주파수 처리 능력:
- 필터는 고전류(AC)와 고주파수(RF) 신호를 동시에 처리할 수 있도록 설계되었습니다.
- 이는 플라즈마 반응기에서 발생하는 높은 전력 요구를 충족시키며, 시스템의 효율성을 유지합니다.
- 디커플링 기능:
- 필터는 AC와 RF 신호를 분리(디커플링)하여 서로 간섭하지 않도록 합니다.
- 이를 통해 플라즈마 반응기 가열 회로에서 발생하는 임피던스 변화를 최소화할 수 있습니다.
- 리액턴스 저항을 이용한 RF 필터링:
- RF 필터(42, 46)는 리액턴스 저항을 사용하여 특정 주파수 대역의 신호만을 통과시키고, 불필요한 주파수 대역의 신호를 차단합니다.
- 이는 플라즈마 시스템의 안정성을 유지하고, 효율적인 전력 사용을 가능하게 합니다.
- 임피던스 변화 최소화:
- 필터는 가열 회로에서 발생할 수 있는 임피던스 변화를 줄여주어, 플라즈마 반응기의 성능과 안정성을 향상시킵니다.
- 이는 가열 회로와 플라즈마 간의 상호작용을 안정적으로 유지하는 데 중요합니다.
필터 구성의 세부 요소
- RF 필터:
- 두 개의 RF 필터(42, 46)는 리액턴스 저항을 사용하여 고주파수 신호를 효과적으로 처리합니다.
- 이러한 필터는 플라즈마 반응기 가열 시스템에서 발생하는 고주파수 신호를 안정적으로 관리합니다.
- 고전류 처리 기능:
- 필터는 고전류를 견딜 수 있도록 설계되었으며, 이는 플라즈마 반응기 가열 회로의 높은 전류 요구를 충족시키는 데 필수적입니다.
- 고전류 처리 능력은 필터의 내구성과 성능을 향상시킵니다.
- 구조적 통합:
- 필터는 플라즈마 반응기 가열 회로와 구조적으로 통합되어 작동합니다.
- 이는 필터와 가열 회로 간의 상호작용을 최적화하고, 시스템의 전체적인 효율성을 높입니다.
종래 기술과 구별되는 특징
- 고전류 및 고주파수 동시 처리:
- 종래 기술은 보통 낮은 전류 또는 주파수 대역에 중점을 두어 설계되었습니다.
- 이 특허는 고전류와 고주파수를 동시에 처리할 수 있는 필터를 설계하여, 더 높은 성능과 안정성을 제공합니다.
- 효율적인 디커플링:
- 종래 기술의 필터는 AC와 RF 신호를 효과적으로 분리하지 못해 간섭이 발생할 수 있습니다.
- 이 특허의 필터는 디커플링 기능을 통해 신호 간섭을 최소화하여, 플라즈마 반응기의 성능을 최적화합니다.
- 리액턴스 저항 기반의 RF 필터링:
- 기존의 필터는 RF 신호 처리가 효율적이지 않아 불필요한 주파수 대역의 신호가 시스템에 영향을 줄 수 있습니다.
- 이 특허는 리액턴스 저항을 사용하여 필요한 주파수 대역만을 통과시키고, 불필요한 신호를 차단합니다.
- 임피던스 변화 관리:
- 종래의 필터는 임피던스 변화를 효과적으로 관리하지 못해 플라즈마 반응기의 안정성이 떨어질 수 있습니다.
- 이 특허는 임피던스 변화를 최소화하여, 플라즈마 시스템의 안정성과 성능을 높입니다.
이와 같은 특징들은 특허 KR20070118959A가 종래 기술과 구별되는 점이며, 고전류 및 고주파수를 효과적으로 처리하여 플라즈마 반응기의 효율성과 안정성을 크게 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다.
※ ChatGPT-4o를 이용해 작성된 포스트입니다.